本实用新型涉及一种数控立式磨床的技术方案

普发磨床

本实用新型涉及一种磨床，具体地说是一种数控立式磨床。

背景技术：

数控磨床是利用磨具磨削工件表面的机床。 大多数磨床采用高速旋转的砂轮进行磨削，也有少数采用油石、砂带等其他磨具和游离磨料，如珩磨机、超精加工机床、砂带磨床、研磨机和抛光机等。 机等

市场上常见的数控立式磨床在使用时无法清理磨削时产生的碎屑。 这些碎屑会影响研磨精度，需要经常清理，清理时非常不方便。 因此，本领域技术人员提供了一种数控立式磨床，以解决上述背景技术中提出的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种数控立式磨床，以解决上述背景技术中存在的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：

一种数控立式磨床，包括底座、水池、磨床、x轴底座、z轴底座、y轴底座和水箱。 水池设置在底座的顶部，x轴底座设置在水池内部的中间。 固定连接，x轴底座上设有y轴底座，y轴底座上设有工作台，底座后侧下方设有水箱，顶部固定连接有支撑柱水箱的中部设有支撑柱，支撑柱的顶部后侧设有悬空平台，悬空平台的后侧设有Z轴底座。 磨床安装在z轴底座上。 研磨机中有一个研磨盘。 水箱顶部左右两侧设有喷水管和吸水管。

作为本发明进一步的方案：所述y轴底座、工作台、打磨装置均与丝杠传动装置连接。

作为本发明进一步的方案：所述x轴底座和y轴底座上方设有挡水板。

作为本发明进一步的方案：所述水箱顶部的左侧设置有水泵，所述水泵的顶部连接有喷水管，所述水箱的下方设置有吸水管泵并插入水箱中。

作为本发明进一步的方案：所述吸水管连接于所述水箱顶部的右侧，所述水箱的右上方设有支撑平台，所述支撑平台上方设有集尘抽屉。平台，集尘抽屉内侧底部设有过滤板。

作为本发明进一步的方案：水池底部设有回水管，回水管与水箱顶部左侧连接，水箱内设有挡板、导轨挡板右侧设有密封板，导轨内设有密封板，密封板顶部右侧设有固定连接的浮动板，密封板内设有第二水孔。挡板，封板上设有第一水孔。

作为本发明进一步的方案：水池内底部设有过滤棉。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型结构设计简单合理，使用方便快捷，实用性强。 工件放置在工作台上后，通过丝杆传动装置进行自动抛光。 抛光过程中，水泵将水箱内的冷却液抽出。 ，通过喷淋管进行喷淋冷却。 水箱内的水被抽出后，压力降低，气体通过吸料管吸入，研磨时的碎屑被吸入集尘抽屉。 过滤板过滤掉气体中的杂物，减少清洁工作台的时间。 工作量大，防止碎屑过多影响打磨工作。 未被吸入管吸入的冷却液流入水池后，经过滤棉过滤掉冷却液中的杂物后，冷却液流入水箱内挡板右侧。 此时，密封板将第二水孔密封。 当水位上升时，浮板浮起，带动密封板向上移动。 当第一水孔和第二水孔重叠时，挡板右侧的冷却液通过第一水孔和第二水孔进入挡板左侧。

附图说明

图1是数控立式磨床的结构示意图。

图2是CNC立式磨床的侧视图。

图3是数控立式磨床中水箱的结构示意图。

图中：1-底座、2-水池、3-x轴底座、4-挡水板、5-工作台、6-研磨机、7-z轴底座、8-研磨盘、9-悬挂工作台、 10-支撑柱、11-吸水管、12-y轴底座、13-水箱、14-喷射管、15-水泵、16-回水管、131-挡板、132-导轨、133-浮板、134-密封板、135-第一水孔、136-第二水孔、137-支撑平台、138-灰尘抽屉、139-过滤板。

详细方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。 显然，所描述的实施例只是本实用新型的部分实施例，而不是全部的实施方式。 例子。 基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至图3，本发明实施例的数控立式磨床包括底座1、水池2、磨床6、x轴底座3、z轴底座7、y轴底座7、轴底座12和水箱13，底座1的顶部设置有水池2，水池2内部中间设置有X轴底座3并固定连接，X轴底座3设有y轴底座12，y轴底座12上设有工作台5，底座1后侧下方设有水箱13，顶部中部固定连接有支撑柱10水箱13的支撑柱10顶部后侧设置有悬浮平台9，悬浮平台9后侧设置有Z轴底座7。研磨机6设置在Z轴底座7上安装有研磨盘8，研磨机6内安装有研磨盘8。水箱13顶部的左右两侧分别设有喷水管14和吸水管11。

Y轴底座12、工作台5、磨削装置6均与丝杠传动装置连接。

x轴底座3和y轴底座12上方设有挡水板4。

水箱13顶部左侧设有水泵15。 水泵15的顶部连接有喷水管14。 水泵15下方设置有吸水管，吸水管插入水箱13中。

吸水管11连接于水箱13顶部的右侧。水箱13的右上侧设有支架137。支架137上方设有集尘抽屉138。过滤板139设置在集尘抽屉138的内底部。

水池2的底部设有回水管16，回水管16与水箱13的左上方连接。水箱13内设有挡板131，挡板131上设有导轨132。挡板131的右侧面，导轨132内部设置有密封板134。密封板134的顶部右侧面设置有固定连接的浮板133。 挡板131内设有第二水孔136，封口板134内设有第一水孔135。

水池2内底部设有过滤棉。

本实用新型的工作原理是：

本实用新型涉及一种数控立式磨床。 使用时，将工件放置在工作台5上后，通过丝杠传动装置进行自动磨削。 在磨削过程中，水泵15将水箱13内的冷却液抽出并通过喷淋管。 14进行喷雾冷却。 水箱13内的水被抽出后，压力降低，气体通过吸管11吸入，研磨时的碎屑被吸入集尘器138中。过滤板139将研磨过程中的碎屑过滤掉。冷却液流入水池2，经过滤棉过滤掉冷却液中的杂物后，冷却液流入水箱13内的挡板131右侧。此时，密封板134密封第二水孔136。当水位上升时，浮板133上浮时，带动密封板134向上移动。 当第一水孔135和第二水孔136重叠时，挡板131右侧的冷却剂穿过第一水孔135和第二水孔。 孔136进入挡板131的左侧。

对于本领域技术人员来说显而易见的是，本发明不限于上述示例性实施例的细节，并且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，本发明可以以其他具体形式来实现。 因此，从任何角度来看，这些实施例都应当被视为示例性的而非限制性的。 本发明的范围由所附权利要求而不是上述描述来限定，因此旨在落入权利要求的所有权利要求内的所有等同元件的含义和范围内的所有改变都包括在本发明中。 权利要求中的任何附图标记不应被解释为限制所讨论的权利要求。

另外，应当理解的是，本说明书虽然以具体的实施方式进行描述，但并非每个实施方式都只包含独立的技术方案。 本说明书的这些描述仅仅是为了清楚起见，本领域技术人员应该将本说明书作为一个整体来理解。 当然，各实施例的技术方案还可以适当组合，形成本领域技术人员能够理解的其他实施方式。

技术特点：

1、一种数控立式磨床，包括底座（1）、水池（2）、磨床（6）、x轴底座（3）、z轴底座（7）、y轴底座（ 12)和水箱(13)，其特征在于，水池(2)设置在底座(1)的顶部，x轴底座(3)设置在水池(2)内部的中间位置。 ）并固定连接，x轴底座（3）设有y轴底座（12），y轴底座（12）上设有工作台（5）。 底座（1）后侧下方设有水箱（13），水箱（13）的顶部和中部固定连接。 有支撑柱（10），支撑柱（10）顶部后侧设有悬挂平台（9），悬挂平台后侧设有Z轴底座（7） (9)、磨床(6)设置在z轴座(7)内，磨床(6)内设置磨盘(8)、喷水管(14)和吸水管(14)。水箱（13）顶部的左右两侧分别设有11）。

2.根据权利要求1所述的数控立式磨床，其特征在于，所述y轴底座（12）、工作台（5）、磨床（6）均连接有丝杠传动装置。

3.根据权利要求1所述的数控立式磨床，其特征在于，所述x轴底座（3）和y轴底座（12）上方设有挡水板（4）。

4.根据权利要求1所述的数控立式磨床，其特征在于：所述水箱（13）顶部左侧设有水泵（15），所述水泵（15）顶部连接有水泵（15）。喷水管（14）。 15)下方设有吸水管，插在水箱(13)内。

5.根据权利要求1所述的数控立式磨床，其特征在于，所述吸水管（11）连接于所述水箱（13）的右上侧，其右上侧设有支撑平台（137）。水箱(13)。 工作台（137）上方设有集尘抽屉（138），集尘抽屉（138）内底部设有过滤板（139）。

6.根据权利要求1所述的数控立式磨床，其特征在于，所述水池（2）的底部设有回水管（16），所述回水管（16）与所述水箱的左上方连接（13）。 水箱（13）内设有挡板（131），挡板（131）右侧设有导轨（132），导轨（132）内设有密封板（134），封口板（134）的右上侧设有封口板（134）。 浮板（133）固定连接，挡板（131）内部设有第二水孔（136），密封板（134）内部设有第一水孔（135）。

7.根据权利要求1所述的数控立式磨床，其特征在于，所述水池（2）内底部设有过滤棉。

技术概要

本实用新型公开了一种数控立式磨床，包括底座、水池、磨床、X轴底座、水箱。 底座顶部设有水池，轴底座上设置有Y轴底座，Y轴底座上设置有工作台。 底座后侧下方设有水箱，水箱顶部中部固定连接有支撑柱，支撑柱顶部后侧设有悬挂平台。 悬挂平台后侧设有Z轴导轨。 磨床安装在Z轴导轨上。 研磨机内设有研磨盘。 水箱顶部左右两侧设有喷水管和吸水管。 水泵将水箱内的冷却液抽出，通过喷淋管喷出进行冷却。 水箱内的水抽出后，压力降低，气体通过吸料管吸入，研磨时的碎屑被吸入除尘器。 过滤板过滤掉气体中的杂物。 、减少清理工作台时的工作量，防止杂物过多影响打磨工作。

技术研发人员：隋跃

受保护技术使用者：瓦房店

技术研发日：2018.12.26

技术公告日期：2020.05.01